此年度，拓荆科技的扣非净利润同比增长了 14.2%。拓荆科技在国内属于薄膜沉积设备和混合键合设备的领军企业。它已经形成了两个产品系列。其聚焦的半导体薄膜沉积设备，与光刻机、刻蚀机一样，都是芯片制造的三大主设备。在 2021 年到 2023 年期间，公司的研发投入分别是 2.88 亿元、3.79 亿元和 5.76 亿元。从而使业务规模实现了快速增长。公司进行高强度的研发投入并一直持续着，取得了重要的成果。下游用户对新产品及新工艺进行了验证并导入，使其实现了产业化。客户给新型设备平台及反应腔下了重复订单，从而实现了大批量出货。在 2024 年度，公司出货的设备反应腔超过了 1000 个，创造了历史新高。此前公司曾宣称，随着先进产品的推出，业务规模得以扩大，产品布局变得更加完善，客户的认可度也在不断攀升，进而使得设备出货量大幅增加。公司表明 2024 年营业收入有所增长，其主要原因是市场需求呈现增长态势，并且新产品以及新工艺的订单成功转化为了收入。